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原子层沉积ALD工艺流程

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简介：原子层沉积设备的工艺流程极为精细，能够实现原子级别的薄膜生长控制。设备运行初始，将基片置于反应腔室中。首先，通入第一种气态前驱体，这种前驱体分子会在基片表面发生...

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